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香港开发出自清洗服装

2004-06-18

    香港理工学院的研究人员开发除一周化学涂布，这预示着自清洗服装的出世。
    据报道，这种涂布能够暴露在阳光下能够消除灰尘，这种涂布包含了众多二氧化钛微粒。这些微粒的直径小于20纳米，大约是人类头发直接的1/2500，帮助毁掉污处的碳分子。
    这项研究是香港理工学院的研究员Walid Daoud和约翰.辛承担的。

（信息员供稿　未经许可　严禁转载）

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